Monikiteisen piin energian varastointiaste
Olemme sitoutuneet tarjoamaan sinulle poikkeuksellisen laadukkaita energiaratkaisuja ajallaan ja budjetin rajoissa. Hinnoi projektisi nopeasti ja helposti nyt!
Huokoisen monikiteisen piin prosessi-ikkuna on kapea ja parametrit vaihtelevat käytettävän reaktorin mu-kaan. Kemiallista kaasufaasipinnoitusta (Chemical vapor deposition, CVD) käytetään ohutkalvojen kasvatuksessa. Erilaisilla CVD-menetelmillä tehdään ohutkalvoja, joi-den ominaisuudet ja laatu vaihtelevat. Monikiteistä piitä kasvatetaan CVD:n avulla ja prosessin …